Çin, teknoloji alanında önemli bir hamle gerçekleştirerek, ABD yaptırımları karşısında kendi kendine yetebilme çabalarını hızlandırdı. Çin Sanayi ve Bilgi Teknolojileri Bakanlığı'na (MIIT) göre, yerli üretim iki çip üretim makinesi önemli teknolojik gelişmeler kaydetmiş durumda, ancak henüz piyasada test edilip performans göstermediler. Bu adım, ABD, Hollanda ve Japonya'nın Çin'e yönelik yeni yaptırım kararlarının ardından atıldı.
Çin, kendi DUV (derin ultraviyole) litografi ekipmanını geliştirdi Bu makineler, silikon plakalar üzerine karmaşık devre desenlerini işleyen litografi makineleri olarak tanımlanıyor. Bakanlık, bu makinelerin teknolojik açıdan ileri olduklarını ve fikri mülkiyet haklarının tamamen Çin'e ait olduğunu belirtirken, makineleri geliştiren firmaların isimlerini doğrudan açıklamadı.
Tanıtılan makinelerden biri, 193 nanometre (nm) dalga boyunda çalışan bir DUV litografi makinesi olup, 65nm'nin altında bir çözünürlük ve 8nm'nin altında üst üste bindirme doğruluğu sunuyor. Diğer DUV makinesi ise 248nm dalga boyunda çalışıyor ve 110nm çözünürlüğe, 25nm bindirme doğruluğuna sahip.
Ancak bu makineler, şu anda piyasadaki en ileri teknolojiye sahip modellerin gerisinde kalıyor. Örneğin, Hollandalı ASML Holding'in en gelişmiş DUV makinelerinden biri olan TWINSCAN NXT:2100i, 38nm'nin altında çözünürlük ve 1.3nm'nin altında bindirme doğruluğu sunuyor. Ayrıca ASML, aşırı ultraviyole (EUV) adı verilen ve en gelişmiş çiplerin üretildiği litografi makinelerine de sahip. EUV makineleri, DUV makinelerinden çok daha küçük ve karmaşık devre desenleri basabiliyor.
Çin, çip üretiminde kendi kendine yetebilecek Çin, yarı iletken teknolojisinde bağımsızlık yolunda uzun süredir çaba gösteriyor, ancak gelişmiş çiplerin seri üretimi için gerekli olan litografi sistemlerini geliştirme süreci yavaş ilerliyor. Ülkedeki litografi makinelerinin çoğu, gelişmiş EUV makinelerine erişimi olmayan ve ABD yaptırımlarına maruz kalan ASML'den tedarik ediliyor.
Yeni geliştirilen yerli ArF (argon florür) litografi makinelerinin, başta Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC) ve Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) olmak üzere önde gelen Çinli yarı iletken ekipman üreticileri ile araştırma enstitüleri tarafından geliştirildiği belirtiliyor. Ayrıca, Çin Bilimler Akademisi Mikroelektronik Enstitüsü de bu alanda önemli katkılarda bulunmuş durumda.
ABD ve Hollanda, son haftalarda Çin'e yönelik yaptırımları daha da sıkılaştırdı ve ASML'nin orta seviye DUV makineleri için bile lisans zorunluluğu getirdi. Dolayısıyla, Çin'in kendi litografi teknolojisini geliştirmesi büyük bir adım olarak değerlendiriliyor. Yine de, bu makinelerin üretim ve kullanım aşamalarında nasıl performans gösterecekleri bekleniyor. Bu gelişmeler, Çin’in gelecekte çip üretimi konusunda ASML’ye olan bağımlılığını büyük ölçüde azaltabileceğini gösteriyor. Bununla birlikte, şu an itibarıyla Çin hükümetinden veya ilgili üretici firmalardan resmi bir açıklama yapılmadı.
Çin, kendi DUV (derin ultraviyole) litografi ekipmanını geliştirdi Bu makineler, silikon plakalar üzerine karmaşık devre desenlerini işleyen litografi makineleri olarak tanımlanıyor. Bakanlık, bu makinelerin teknolojik açıdan ileri olduklarını ve fikri mülkiyet haklarının tamamen Çin'e ait olduğunu belirtirken, makineleri geliştiren firmaların isimlerini doğrudan açıklamadı.
Tanıtılan makinelerden biri, 193 nanometre (nm) dalga boyunda çalışan bir DUV litografi makinesi olup, 65nm'nin altında bir çözünürlük ve 8nm'nin altında üst üste bindirme doğruluğu sunuyor. Diğer DUV makinesi ise 248nm dalga boyunda çalışıyor ve 110nm çözünürlüğe, 25nm bindirme doğruluğuna sahip.
Ancak bu makineler, şu anda piyasadaki en ileri teknolojiye sahip modellerin gerisinde kalıyor. Örneğin, Hollandalı ASML Holding'in en gelişmiş DUV makinelerinden biri olan TWINSCAN NXT:2100i, 38nm'nin altında çözünürlük ve 1.3nm'nin altında bindirme doğruluğu sunuyor. Ayrıca ASML, aşırı ultraviyole (EUV) adı verilen ve en gelişmiş çiplerin üretildiği litografi makinelerine de sahip. EUV makineleri, DUV makinelerinden çok daha küçük ve karmaşık devre desenleri basabiliyor.
Çin, çip üretiminde kendi kendine yetebilecek Çin, yarı iletken teknolojisinde bağımsızlık yolunda uzun süredir çaba gösteriyor, ancak gelişmiş çiplerin seri üretimi için gerekli olan litografi sistemlerini geliştirme süreci yavaş ilerliyor. Ülkedeki litografi makinelerinin çoğu, gelişmiş EUV makinelerine erişimi olmayan ve ABD yaptırımlarına maruz kalan ASML'den tedarik ediliyor.
Yeni geliştirilen yerli ArF (argon florür) litografi makinelerinin, başta Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC) ve Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) olmak üzere önde gelen Çinli yarı iletken ekipman üreticileri ile araştırma enstitüleri tarafından geliştirildiği belirtiliyor. Ayrıca, Çin Bilimler Akademisi Mikroelektronik Enstitüsü de bu alanda önemli katkılarda bulunmuş durumda.
ABD ve Hollanda, son haftalarda Çin'e yönelik yaptırımları daha da sıkılaştırdı ve ASML'nin orta seviye DUV makineleri için bile lisans zorunluluğu getirdi. Dolayısıyla, Çin'in kendi litografi teknolojisini geliştirmesi büyük bir adım olarak değerlendiriliyor. Yine de, bu makinelerin üretim ve kullanım aşamalarında nasıl performans gösterecekleri bekleniyor. Bu gelişmeler, Çin’in gelecekte çip üretimi konusunda ASML’ye olan bağımlılığını büyük ölçüde azaltabileceğini gösteriyor. Bununla birlikte, şu an itibarıyla Çin hükümetinden veya ilgili üretici firmalardan resmi bir açıklama yapılmadı.